Identifiant PLACE de l'annonce :
2942587
Métadonnée "org_acronym" :
s2d
Métadonnée "reference" : B26-00241-TZ
Métadonnée "intitule" : Fourniture d'un équipement de gravure sélective Si - SiGe pour des wafers de 300mm
Métadonnée "objet" : Fourniture d'un équipement de gravure sélective Si - SiGe pour des wafers de 300mm
Métadonnée "organisme" : Autres organismes
Date du téléchargement depuis PLACE :
2026-02-14T03:10:14.716000
Liens BOAMP :
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Référence du réglement :
Cette annonce de comprend pas de réglement.
DCE Place.zip (8192287)
/1. Reglement de consultation B26-00241-TZ.pdf
/1.2 RC Annexe 1 Demat procedure.pdf
/1.2.1 RC Appendix 1 Demat of procedure EN.pdf
/1.3 RC Annexe 2 Regles applicables.pdf
/1.3.1 RC Appendix 2 Rules applicable.pdf
/1.4 RC-Annexe 4 Tableaux de DPGF [A COMPLETER].xlsx
/2. PM B26-00241-TZ [A COMPLETER].pdf
/2.1 Draft contrat B26-00241-TZ -For information only.pdf
/3.1-Annexe_A_Si_SiGe_Selective_Etch.xlsx
/3.1-Annexe_A_Si_SiGe_Selective_Etch.xlsx/image1.jpeg
/3.2 Annexe I Risk Identification Sheet.xlsx
/3.2 Annexe I Risk Identification Sheet.xlsx/image1.png
/3.3 APPENDIX J SECS-GEM Compliance Statement.dotx
/3.3 APPENDIX J SECS-GEM Compliance Statement.dotx/image1.png
/3.4 Appendix K Template and Footprint.xltx
/3.4 Appendix K Template and Footprint.xltx/image1.png
/4. CGA janvier 2022 FR.pdf
/4.2 General Terms and condition of Purchase.pdf
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