Identifiant PLACE de l'annonce :
2937892
Métadonnée "org_acronym" :
f2h
Métadonnée "reference" : AOO-13-2025
Métadonnée "intitule" : Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
Métadonnée "objet" : Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
Métadonnée "organisme" : Etablissements et organismes de l'enseignement supérieur, de la recherche et de l'innovation
Date du téléchargement depuis PLACE :
2026-02-10T03:08:58.874000
Liens BOAMP :
Cette annonce de comprend pas d'avis.
Référence du réglement : MjkzNzg5Mg==
RC - RIE AOO.13.2025.pdf (439883)
DCE - RIE - AOO.13.2025.zip (2852883)
/Annexe au CCTP PLAN SB NANOFAB_ICP-RIE.pdf
/Annexe au RC - BPU - RIE AOO1.13.2025.docx
/CCAP RIE AOO.13.2025.pdf
/CCTP - RIE AOO.13.2025.pdf
/CRT RIE AOO.13.2025.xlsx
/RC - RIE AOO.13.2025.pdf
/Registre administratif - AOO.13.2025.docx
/Registre administratif - AOO.13.2025.docx/image1.png
/Registre administratif - AOO.13.2025.docx/image2.svg
Cadre Réponse Administratif.xlsx (19643)