Identifiant PLACE de l'annonce :
2744679
Métadonnée "org_acronym" :
f2h
Métadonnée "reference" : 2025FOUR006MLV
Métadonnée "intitule" : FOURNITURE DE MASQUES POUR LES OPERATIONS DE PHOTOLITHOGRAPHIE POUR LA MICROELECTRONIQUE ET LES MICROSYSTEMES POUR LES SALLES BLANCHES DE L’ESIEE PARIS A L’UNIVERSITE GUSTAVE EIFFEL
Métadonnée "objet" : La présente consultation a pour objet la fourniture de masques pour les opérations de photolithographies pour la microélectronique et les microsystèmes pour les salles blanches de l’ESIEE Paris à l’Université Gustave Eiffel.
Métadonnée "organisme" : Etablissements et organismes de l'enseignement supérieur, de la recherche et de l'innovation
Date du téléchargement depuis PLACE :
2025-04-08T03:10:52.484000
Liens BOAMP :
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Référence du réglement : Mjc0NDY3OQ==
RC 2025FOUR006MLV.pdf (1229508)
DCE.zip (3042823)
/ATTRI1 - Acte d'Engagement -AC 2025FOUR006MLV.doc
/ATTRI1 - Acte d'Engagement -AC 2025FOUR006MLV.doc/image1.jpg
/Annexe 1 AE- BPU-Cadre de reponse technique.xlsx
/Annexe 1 AE- BPU-Cadre de reponse technique.xlsx/image1.png
/Annexe 2 AE- Delais d''execution ou de livraison.doc
/Annexe 2 AE- Delais d''execution ou de livraison.doc/image1.jpg
/CCP 2025FOUR006MLV.pdf
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/DC2- 2025FOUR006MLV.doc
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/RC 2025FOUR006MLV.pdf
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